电子束曝光是一种利用聚焦的高能电子束，在晶圆表面进行直接曝光，生成微米和纳米级结构的高分辨率图形化技术。该技术的关键在于其系统性能，它决定了最终产品的关键尺寸精度、图案拼接准确性以及多层套刻的一致性。

金竟科技自主研发的Pharos 510电子束曝光系统，具有高分辨率、精准控制和高度自动化的优势，被广泛应用于制备半导体芯片、光子学元件和其他微纳米结构等领域，是实验室条件下进行亚微米至纳米级曝光技术研发的理想工具。

电子束曝光系统应用领域

· 半导体制造：用于制造集成电路、芯片等半导体器件。

· 纳米技术研究：在纳米材料、纳米器件的研发中发挥重要作用。

· 光学领域：制作光子晶体、光波导、调制器、超表面等光学元件。

· MEMS（微机电系统）：制造纳米结构等。

· 生物芯片：用于生物芯片的制作。

· 材料科学：研究材料的表面性质、结构等。

· 量子技术：在量子计算、量子通信等领域的研究和开发中得到应用。