电子束曝光机——Pharos 510
电子束曝光是一种利用聚焦的高能电子束，在晶圆表面进行直接曝光，生成微米和纳米级结构的高分辨率图形化技术。该技术的关键在于其系统性能，它决定了最终产品的关键尺寸精度、图案拼接准确性以及多层套刻的一致性。
金竟科技自主研发的Pharos 510电子束曝光系统，具有高分辨率、精准控制和高度自动化的优势，被广泛应用于制备半导体芯片、光子学元件和其他微纳米结构等领域，是实验室条件下进行亚微米至纳米级曝光技术研发的理想工具。
电子束曝光系统应用领域
· 半导体制造：用于制造集成电路、芯片等半导体器件。
· 纳米技术研究：在纳米材料、纳米器件的研发中发挥重要作用。
· 光学领域：制作光子晶体、光波导、调制器、超表面等光学元件。
· MEMS（微机电系统）：制造纳米结构等。
· 生物芯片：用于生物芯片的制作。
· 材料科学：研究材料的表面性质、结构等。
· 量子技术：在量子计算、量子通信等领域的研究和开发中得到应用。
技术参数
· 电子发射源：肖特基热场发射源
· 最高加速电压：50kV
· 最小加工线宽：≤10nm
· 工艺线宽：≤100nm（工作条件：1nA&1000μm field）
· 图形套刻精度：≤±25nm
· 写场拼接精度：≤±25nm
· 最大写场尺寸：1000μm×1000μm（加速电压：50kV）
· 样品尺寸：2-8英寸晶圆及小尺寸样品
· 电子束扫描频率：≥100MHz
· 电子束束流：30pA-100nA
· 定位方式：激光干涉仪定位高精度真空工件台
· 样品台移动范围：200mm
性能配置
· 八级静电偏转
· 自动聚焦像散与高度测量
· 自动进样
· 邻近效应校正
· 束流和光斑位置的循环校正功能
专业系统培训
丰富应用经验
及时高效响应
卓越服务体验
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