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Pharos 310电子束曝光系统:国产高精度设备的“破壁者”

发布日期 : 2025-03-25

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一、纳米级制造的“卡脖子”之痛

作为实现纳米级精度的核心装备,长期以来,高端电子束光刻机市场被海外巨头垄断,国内科研机构和企业不仅面临高昂的采购成本,更在技术升级和售后支持上处处受制。

金竟科技自主研发的Pharos 310电子束曝光系统,以多项国际一流技术指标,实现了国产高端设备的“突围”,为科研工作者提供了高性能、高性价比的国产替代方案。


二、核心优势:Pharos 310的技术亮点

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01-超高精度:纳米级加工的可靠保障

  • 电子束斑尺寸2.0nm@30keV:确保纳米级图案的精确制备。

  • 分辨率<15nm:支持复杂纳米结构的加工,适用于各类前沿研究。

  • 激光干涉仪定位+气浮减振系统:有效降低环境振动对加工精度的影响。


02-高效便捷:提升科研效率

  • 写场速度最高20MHz:大幅缩短大面积图案的加工时间。

  • 自动进样系统:10分钟内达到工作真空度。

  • 光学导航系统:快速定位样品区域,提升实验效率。


03-国产替代:性价比与服务的双重优势高性价比,降低科研成本。

  • 终身免费软件升级:确保设备始终处于最佳状态。

  • 高效技术支持:快速响应科研需求,提供定制化解决方案。


三、应用场景:Pharos 310的科研价值


随着国家对高端科学仪器自主化的重视,电子束曝光设备的自主化意义重大。金竟科技自主研发的Pharos 310不仅填补了国内高端设备的空白,更为科研工作者提供了可靠的工具,让国产高精尖设备成为科技领域的“破局利器”。

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